一直以来，国产芯片研发先进工艺都存在不小的争议，因为ASML没有将先进的EUV光刻机卖给中国芯片企业，中国芯片企业之前买下的最先进光刻机也是2000i，台积电曾以这款光刻机生产7纳米。
为了打破芯片工艺对国产芯片的限制，国内芯片制造企业一直在尝试以现有的浸润式DUV光刻机开发7纳米乃至5纳米工艺，其中的一项重要技术是多重曝光技术，而国内企业也曾被曝出申请多重曝光专利。
不过由于国外的芯片企业没有采用浸润式DUV光刻机生产5纳米工艺的先例，这让业界人士担忧中国芯片是否真的有能力以现有的DUV光刻机生产5纳米工艺。
近期海外有实验室对此进行尝试，他们已证明了以浸润式DUV光刻机确实可以生产5纳米工艺，通过多重曝光技术以及其他技术的辅助，甚至可以生产出比台积电的5纳米更先进的工艺。
海外的相关人士也指出，虽然用这种方式可以生产出5纳米工艺，但是后果是良率偏低、成本很高，对于海外的芯片制造企业来说，他们能买到EUV光刻机，用EUV光刻机生产5纳米工艺可以达到更加的经济成本，这种技术对于海外的芯片制造企业来说没多大意义。
对于中国芯片行业来说，用现有的DUV光刻机生产5纳米工艺则具有重要意义，如今先进芯片在诸多行业的应用都越来越广泛，先进芯片可以提供更强的性能、更低的功耗，除了手机需要之外，服务器、PC都需要先进工艺的芯片，特别是服务器行业，耗电量巨大，互联网企业为了降低功耗甚至在北极圈内建设数据中心。
对于这些行业来说，中国目前恰恰因为某国的做法，越来越难以买到先进芯片，如此情况下，加快国产先进芯片的研发就尤为重要，成本的影响可以暂时放到一边，而这些行业对于先进芯片的需求量其实占整体芯片需求量的比例也较低，解决先进芯片的有无问题更为重要。
业界人士指出中国需求的芯片有七成以上都是14纳米以上工艺，这些工艺如今国内已能实现大规模量产，对全球市场已产生重要影响，甚至中国的成熟工艺芯片还走向海外市场，抢走了海外芯片不少的市场份额。
如果中国的先进工艺芯片实现量产，那么至少满足国内的需求不成问题，如此中国可以大幅减少先进芯片的进口，还能为国内当下快速发展的AI等提供有力的支持，美国目前就屡屡在服务器芯片、AI芯片方面限制供应，如此情况下，实现先进工艺芯片的自产就更有独特的意义了。
在全球芯片市场，华人都证明了对芯片技术的深刻理解，中国台湾的台积电就已在先进工艺方面领先于美国，Intel当年的芯片发展也曾有华人做出了卓越贡献，如今NVIDIA、AMD等诸多美国芯片企业都有大量华人从事技术工作，中国拥有最多的技术人才，相信他们终究能解决芯片工艺的限制。
原文标题 : 正式确认，国内的光刻机完全可以生产5纳米，先进工艺不再是桎梏
